制取无牙下颌印模时，远中的范围应当

制取无牙下颌印模时，远中的范围应当

A.盖过磨牙后垫全部

B.暴露磨牙后垫

C.盖过磨牙后垫1/2

D.盖过磨牙后垫的1/3

E.盖过磨牙后垫的1/2～2/3

正确答案：A

答案解析：取模时下颌托盘的高度和宽度与上颌的托盘相同，其长度应盖过磨牙后垫。全口义齿基托后缘应盖过磨牙后垫的1/2或全部。